LABOPORT® SC 820 G
耐薬品性ダイアフラム真空ポンプ、ベースプレート、セパレーター(吸引側)、高性能コンデンサー(排出側)および真空コントローラーによる構成。ロータリーエバポレーターなど、真空度のコントロールが重要なアプリケーション...
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2022年8月22日から26日まで、KNFはドイツのフランクフルト・アム・マインにおける今年のACHEMAで最新のポンプとシステムを発表しました。約15万人の来訪者と3800の展示者が参加する見本市はLABOPORT® シリーズ SC 820 G、 SC 840 G真空ポンプとそれらの新たに開発された真空コントローラーの最新版など、ラボの目玉商品のための理想的な機会となりました。
カスタマイズ可能なラボポンプ
新しい LABOPORT® ベースポンプは様々なラボアプリケーションに優れた能力かつ柔軟性のある機能を提供します。ダイアフラムポンプはサイズもコンパクトで、耐薬性やオイルフリーでの作業を可能にします。セパレーター、高出力コンデンサーや新型真空コントローラーなどの追加のシステム部品によって、システムがよりカスタマイズ可能になりました。これにより様々なラボアプリケーションに適合し、環境に配慮した溶媒回収が可能となります。更に、ポンプはATEX(EU防爆規格)準拠なので、より汎用性が高くなりました。
使いやすさを追求した真空コントローラー
KNFブースでのは一番の推奨製品は新型真空コントローラ― でした。新規設計したタッチスクリーンディスプレイは人間工学に基づいた快適性と高い精度の真空制御をご提供します。このコンパクトなユニットは日々の研究・開発作業を向上させるために必要な使いやすさと機能性をすべて兼ね備えています。
ラボ用ポンプおよびシステム
LABOPORT®の新製品を展示することで、来場者はKNFの考える先進的なラボ用ポンプを体感いただきました。その美しく先進的な外観は実に印象的なものとなっています。また、使いやすさと性能を両立させることで、日々の業務をサポートする製品群でありながら、実際に使ってみると楽しい製品群でもあることを体感していただきました。来場者は実際にこれらの製品を操作し、LABOPORT®製品がいかに直感的に扱えるかを体験されていました。
